鱗片石墨分散機，SGN研磨分散機采用二級結構，“膠體磨+分散機"一體化設備，先研磨后分散，配合14000rpm高轉速，分散效果好。

產品型號：GMD2000

更新時間：2025-07-24

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產品介紹

鱗片石墨分散機,鱗片石墨研磨分散機,石墨分散機,石墨烯研磨分散機,石墨烯分散設備,SGN研磨分散機采用二級結構，“膠體磨+分散機”一體化設備，先研磨后分散，配合14000rpm高轉速，分散效果好。

鱗片石墨廣泛用于治金工業的高級耐火材料與涂料。如鎂碳磚、坩堝等。軍事工業火工材料安定劑、冶煉工業脫硫增速劑、輕工業的鉛筆芯、電氣工業的碳刷、電池工業的電極、化肥工業的催化劑等。鱗片石墨經過深入加工，又可以生產出石墨乳，用于潤滑劑、脫模劑、拉絲劑、導電涂料等。還可以生產膨脹石墨，用于柔性石墨制品原料，如柔性石墨密封件及柔性石墨復材料制品等。

鱗片石墨作為涂料的功能填料主要用于防腐涂料、防火涂料和導電涂料。作為防腐材料，它和炭黑、滑石粉及油料等制成的防銹底漆，具有良好的耐化學品和溶劑腐蝕性能；若在配方中加入鋅黃等化學顏料，其防銹效果更好。

鱗片石墨可直接作為碳類導電填料亦可制成復合導電填料用于導電涂料。但由于石墨鱗片的添加量較大，會使涂料的性能變脆而使其應用受到一定限制。因此，采取措施進一步提高石墨的導電性，有效降低石墨鱗片的添加量。

SGN鱗片石墨研磨分散機是結合研磨和分散功能的一體化的設備。研磨：利用剪切力、摩擦力或沖擊力將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒；分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒*被分離、潤濕、分布均勻及穩定目的。

在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的研磨機來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術。

SGN石墨烯研磨分散設備采用德國較良好的高速研磨分散技術，通過超高轉速（高可達14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉子（通常配GM+8SF，定轉子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流，在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。

鱗片石墨研磨分散機是由膠體磨，分散機組合而成的高科技產品。

初級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

GMD2000系列研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到zui低，保證機器連續24小時不停機運行。

GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

GMD2000系列鱗片石墨分散機設備選型表

型號	流量 L/H	轉速 rpm	線速度 m/s	功率 kw	入/出口連接 DN
GMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
GMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
GMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
GMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
GMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
GMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150